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ASML亮相第八屆進(jìn)博會展示其全球AI洞察與面向主流芯片市場全景光刻解決方案

ASML亮相第八屆進(jìn)博會展示其全球AI洞察與面向主流芯片市場全景光刻解決方案

供稿 / 2025-11-06 09:491781
標(biāo)簽:CIIE2025

(中國上海,2025年11月4日)——半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML(阿斯麥)將于11月5日至10日參加第八屆中國國際進(jìn)口博覽會(以下簡稱“進(jìn)博會”)。在本屆進(jìn)博會上,ASML將以“積納米之微,成大千世界”為主題,亮相技術(shù)裝備展區(qū)4.1展館集成電路專區(qū)A1-03展臺。

【圖片】ASML在2025年進(jìn)博會的展臺.JPG ASML在2025年進(jìn)博會的展臺

在今年進(jìn)博會上,ASML將通過短片形式分享其對AI(人工智能)時(shí)代下半導(dǎo)體行業(yè)所面臨機(jī)遇和挑戰(zhàn)的全球洞察:AI正在深刻影響社會與生活的方方面面,驅(qū)動全球?qū)Σ煌瞥坦?jié)點(diǎn)芯片需求的激增。這一趨勢加速了創(chuàng)新步伐,也帶來算力和能源方面的挑戰(zhàn)。推動摩爾定律持續(xù)演進(jìn)仍是應(yīng)對該問題的關(guān)鍵,通過 2D 微縮持續(xù)縮小晶體管尺寸、提升晶體管密度與能效,以及借助3D 集成進(jìn)行堆疊和先進(jìn)封裝,突破平面極限,是行業(yè)尋求創(chuàng)新突破的兩大核心路線。

圍繞本屆參展主題,ASML將重點(diǎn)展示其面向主流芯片市場的全景光刻解決方案,融合光刻機(jī)、計(jì)算光刻和電子束量測與檢測技術(shù),助力客戶在降低能耗與成本的同時(shí)實(shí)現(xiàn)更高良率。

“今年是ASML第七次參加進(jìn)博會。通過這個(gè)促進(jìn)溝通交流的寶貴平臺,我們期待與中國客戶、合作伙伴以及行業(yè)相關(guān)方加強(qiáng)互動。”ASML全球執(zhí)行副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示:“AI正驅(qū)動全球?qū)Σ煌瞥坦?jié)點(diǎn)芯片的需求不斷增長,其中主流芯片在這一增長趨勢中發(fā)揮著重要作用。依托ASML全景光刻解決方案,我們致力于幫助中國客戶把握主流芯片市場機(jī)遇?!?/p>

在本屆進(jìn)博會上,ASML還將在展臺現(xiàn)場展示全景光刻解決方案下的部分亮點(diǎn)產(chǎn)品和技術(shù),借助數(shù)字化形式帶領(lǐng)觀眾沉浸式了解以下內(nèi)容:

· 光刻機(jī):本次展示的DUV光刻機(jī)具備多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù),進(jìn)一步提升產(chǎn)能、降低制造成本,并滿足行業(yè)對3D集成和先進(jìn)封裝等多樣化應(yīng)用不斷增長的需求。

o TWINSCAN XT:260:這款i-line光刻機(jī)是ASML首款可服務(wù)于先進(jìn)封裝領(lǐng)域的光刻系統(tǒng),通過光學(xué)系統(tǒng)的創(chuàng)新,TWINSCAN XT:260具有大視場曝光,相較于現(xiàn)有機(jī)型可提高4倍生產(chǎn)效率,能夠有效提升性能并降低單片晶圓成本。除先進(jìn)封裝外,TWINSCAN XT: 260還可支持主流市場的其他廣泛應(yīng)用。

o TWINSCAN NXT:870B:在升級的光學(xué)器件和最新一代磁懸浮平臺的支持下,TWINSCAN NXT:870B可實(shí)現(xiàn)每小時(shí)晶圓產(chǎn)量(wph)400片以上,并為鍵合后的套刻和階梯式工藝提供強(qiáng)大的校正能力。

o 鉆石涂層技術(shù):在DUV平臺中創(chuàng)新性引入鉆石涂層,能夠有效減少設(shè)備磨損,延長使用壽命,降低更換需求與維護(hù)成本。

· 計(jì)算光刻業(yè)務(wù)

借助優(yōu)化成像光源與掩模板設(shè)計(jì),計(jì)算光刻能夠預(yù)測、校正、優(yōu)化和驗(yàn)證光刻技術(shù)的成像性能,實(shí)現(xiàn)更精確的圖形成像和更好的芯片生產(chǎn)良率。

· 多電子束量測與檢驗(yàn)

o eScan 1100:作為ASML首款實(shí)現(xiàn)在線缺陷檢測(涵蓋物理缺陷和電性缺陷)的25束電子束檢測系統(tǒng),其晶圓量測吞吐量提升至單束系統(tǒng)的10倍以上。

o 未來技術(shù)路線圖: ASML計(jì)劃將電子束數(shù)量擴(kuò)展至2700束,實(shí)現(xiàn)測量能力的飛躍,進(jìn)一步優(yōu)化良率。

除展出的產(chǎn)品和業(yè)務(wù)外,觀眾還可以在ASML展臺體驗(yàn)光刻機(jī)打卡區(qū),并進(jìn)一步了解ASML在企業(yè)社會責(zé)任領(lǐng)域的實(shí)踐與貢獻(xiàn)。

自1988年向中國交付首臺步進(jìn)式光刻機(jī)以來,ASML已在中國市場深耕30余年。秉持合法合規(guī)的原則,ASML將繼續(xù)為中國客戶和半導(dǎo)體行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展提供支持。


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