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作為制造芯片的核心器件，光刻機(jī)自然是重中之重，而一款性能出眾的光刻機(jī)也是制造高性能芯片的必要條件，而在光刻機(jī)領(lǐng)域尤其是高端光刻機(jī)，目前基本上被ASML所壟斷，而ASML也提供給包括英特爾、臺(tái)積電以及三星等晶圓代工廠提供最新的EUV光刻機(jī)。目前隨著技術(shù)的進(jìn)步，越來(lái)越多的晶圓代工廠商開(kāi)始研發(fā)和量產(chǎn)5nm工藝，如今ASML宣布將會(huì)采用全新的技術(shù)，從而讓5nm晶圓的產(chǎn)品成倍提升。

今天ASML宣布正式發(fā)布第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000，這個(gè)檢測(cè)機(jī)可以適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。根據(jù)ASML的介紹，HMI eScan1000實(shí)際上是一套能夠驗(yàn)證先進(jìn)工藝生產(chǎn)出來(lái)的晶圓質(zhì)量的系統(tǒng)，它的作用就是檢測(cè)制造出來(lái)的晶圓能夠符合要求和預(yù)期。

全新的多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000能夠同時(shí)生產(chǎn)和控制九道電子束，檢測(cè)性能提升了600%，因此晶圓的制造能力也得到了極大的提升，此外HMI eScan1000不單單能夠檢測(cè)5nm工藝的產(chǎn)品，同時(shí)也能夠?yàn)榻窈蟮母冗M(jìn)的工藝做準(zhǔn)備，而現(xiàn)在這款產(chǎn)品也得到了客戶(hù)的認(rèn)可，目前已經(jīng)在陸續(xù)測(cè)試。